The GC-MS analysis was carried out

The GC-MS analysis was carried out with an Agilent 5975 GC-MSD system. An Innowax fused silica capillary column (60 m
0.25 mm, 0.25 lm film thickness) was used with helium as the carrier gas (0.8 ml/min). The GC oven temperature was held at 60 C for 10 min after injection and then ramped to 220 C at a rate of 4 C/min, and held at 220 C for 10 min, followed by a second ramp to 240 C at a rate of 1 C/min. The split

Results (Thai) 1:

การวิเคราะห์ GC-MS ได้ดำเนินการกับ Agilent 5975 ระบบ GC-เอ็มเอส Innowax ผสมคอลัมน์ฝอยซิลิกา (60 เมตร? 0.25 มิลลิเมตร, 0.25 ไมครอนความหนาของฟิล์ม) ถูกนำมาใช้กับฮีเลียมเป็นก๊าซผู้ให้บริการ (0.8 มล. / นาที) ประชาคมโลกเตาอบอุณหภูมิถูกจัดขึ้นที่ 60 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 10 นาทีหลังฉีดแล้วเมาถึง 220 องศาเซลเซียสในอัตรา 4? C / นาทีและจัดขึ้นที่ 220 องศาเซลเซียสเป็นเวลา 10 นาทีตามด้วยทางลาดที่สองถึง 240? C ที่อัตรา 1? C / นาที แยก

Results (Thai) 2:

การวิเคราะห์ GC-MS ถูกดำเนินการด้วยระบบของ Agilent ๕๙๗๕ GC-MSD มีการผสมกันในคอลัมน์ซิลิกา (๖๐ m ๐.๒๕ mm, ๐.๒๕ lm ความหนาฟิล์ม) ถูกใช้กับฮีเลียมเป็นก๊าซผู้ให้บริการ (๐.๘มล./นาที). อุณหภูมิของเตาอบ GC ถูกจัดขึ้นที่๖๐ C สำหรับ10นาทีหลังจากที่ฉีดแล้ว ramped ถึง๒๒๐ C ในอัตรา 4 C/นาที, และจัดขึ้นที่๒๒๐ C เป็นเวลา10นาที, ตามด้วยทางลาดที่สองเพื่อ๒๔๐ C ในอัตรา 1 C/นาที. การแยก

Results (Thai) 3:

gc-ms วิเคราะห์โดย Agilent 5975 gc-msd ระบบ อินโนแว็กซ์ละลายคอลัมน์หลอดเลือดฝอยควอทซ์เป็นลูกบุญธรรม 0.25 มม. 0.25-lm ฟิล์มหนาและฮีเลียมเป็นผู้ให้บริการก๊าซ หลังจากฉีดเก็บ GC เตาอบอุณหภูมิภายใต้ 60c 10 นาทีแล้วค่อยๆเพิ่มขึ้นถึง 220 C ที่อัตรา 4-C มินและเก็บสิบนาทีที่ 220 C แล้วเพิ่มขึ้นอีกครั้งในอัตรามินซี