normally are cross-linked and polym

normally are cross-linked and polymerized before exposure. After exposure, the exposed photoresist changes from an aqueous-base-insoluble material to an aqueous-base-soluble material in a photochemical reaction called photosolubilization and is dissolved by the developer; the unexposed parts remain on the wafer surface. To be replaced negative PR when the feature size to smaller than 3µm.

Results (Vietnamese) 1:

thông thường là cross-linked và polymerized trước khi tiếp xúc. Sau khi tiếp xúc, những thay đổi tiếp xúc hoà từ một tài liệu dịch nước-base-không hòa tan một tài liệu dịch nước-base-hòa tan trong một phản ứng photochemical được gọi là photosolubilization và bị giải thể bởi các nhà phát triển; Các bộ phận unexposed vẫn còn trên bề mặt bánh wafer. Được thay thế PR tiêu cực khi các tính năng kích thước to nhỏ hơn 3µm.

Results (Vietnamese) 2:

thường được liên kết ngang và polymer hóa trước khi tiếp xúc. Sau khi tiếp xúc, những thay đổi quang điện trở tiếp xúc từ một vật liệu lỏng-bazơ không tan trong một chất lỏng-base-tan trong một phản ứng gọi là photosolubilization quang hóa và được hòa tan bởi các nhà phát triển; những phần chưa phơi sáng vẫn còn trên bề mặt wafer. Được thay thế PR tiêu cực khi tính năng kích thước nhỏ hơn 3μm.