CZTSe thin films were prepared on Mo coated, ITO coated, and FTOcoated soda lime glass substrates. Two stage process with selenizationafter sputtering (SAS) has been used for CZTSe thin film growth in thisstudy, and is illustrated as below. First, precursor layers for CZTSe thinfilms are deposited on the Mo, FTO and ITO substrate using radio frequency(RF) sputtering in Ar atmosphere at 5 mTorr under room temperature.Both ZnxSn1-x target material (99.99% purity, Summit-TechResource Corp.) and CuxSe target material (99.99% purity, SolarApplied Materials Technology Corp.) are used separately in this method(Lai et al., 2017). The RF power for ZnxSn1-x target material and CuxSetarget material respectively are 100 W and 200 W. The target-to-substratedistance was kept at 13.5 cm, and the targets of 3 in. in diameterwere used in this study. The RF power densities for ZnxSn1-x and CuxSetargets are 2.19 W/cm2 and 4.39 W/cm2 at room temperature. Subsequently,the thickness of individual layers was 0.5 μm, and 0.25 μm.Then, the precursor thin films were placed in a quartz holder and weresent into a furnace purged with Ar along with 700 mg of solid Selenium.Selenization process was taken along a programmed set of annealingtemperature ramps with the highest temperature of 550 °C dwelling for30 min in non-toxic selenium atmosphere. The CZTSe thin films areformed in the selenizaiton process, and are naturally cooled to roomtemperature afterward. The formation of the kesterite CTSe phase in theCuxSe/ZnxSn1−x bilayer precursor occurred at the first stage. As weincreased the selenization temperature, ZnxSn1−x and CuxSe decomposedsequentially because of their different melting points. Meanwhile,the existence of a CTSe interlayer plays an important role in theCZTSe grain growth. Each CZTSe thin film was prepared along with anas-deposited CZTSe thin film for the case of Mo, FTO and ITO substrate.While one CZTSe thin film was reserved for thin film analysis, the otherCZTSe thin film was fabricated into CZTSe solar cell for each case. Forthe fabrication of CZTSe solar cells, a CdS layer with thickness of 50 nmas n-type buffer layer was deposited on the p-type CZTSe thin filmthrough chemical bath deposition (CBD) at 85 °C, and was followed byan intrinsic ZnO (i-ZnO) layer with thickness of 50 nm, and an Al-dopedZnO (Al:ZnO, AZO) layer with thickness of 300 nm, that were sequentiallydeposited onto CdS by sputtering at room temperature. TheCZTSe solar cells were finished at the deposition of Ni and Al, respectivelywith thickness of 50 nm and 1 μm, as the front electrode. XRDanalysis was conducted by a SIEMENS D500 X-ray diffractometer with aCuKa (1.5418 Å) radiation. The diffracted beam was scanning with astep of 0.005°, an angular θ–2θ range from 10° to 80°, and with integrationtime of 1 s. SEM, PL (using excitation laser with 635 nmwavelength), SIMS, and EDS were conducted to the as-deposited CZTSethin films on Mo, FTO and ITO substrates to obtain their structural andcompositional analysis and their optical and electrical characteristics,while current–voltage (I-V) measurements and external quantum efficiency(EQE) measurements were used for analysis on the device performanceof the CZTSe solar cells on different substrates. The compositionsof the as-synthesized CZTSe films are listed in Table 1, and thesesamples reveal a copper- poor and zinc-rich composition ratios with Cu/
Results (
Thai) 1:
[Copy]Copied!
ฟิล์มบาง CZTSe ถูกจัดทำขึ้นโดย Mo เคลือบ ITO เคลือบและ FTO <br>โซดาเคลือบพื้นผิวแก้วมะนาว สองกระบวนการเวทีกับ selenization <br>หลังจากที่สปัตเตอร์ (SAS) ได้ถูกนำมาใช้สำหรับการเจริญเติบโตฟิล์มบาง CZTSe ในเรื่องนี้<br>การศึกษาและเป็นตัวอย่างดังต่อไปนี้ ครั้งแรกที่ชั้นสารตั้งต้นสำหรับบาง CZTSe <br>ภาพยนตร์จะฝากใน Mo, FTO และ ITO สารตั้งต้นที่ใช้คลื่นความถี่วิทยุ<br>(RF) ในชั้นบรรยากาศสปัตเตอร์เท่ที่ 5 mTorr ภายใต้อุณหภูมิห้อง <br>ทั้งวัสดุเป้าหมาย ZnxSn1-X (99.99% ความบริสุทธิ์ประชุมสุดยอด-Tech <br>ทรัพยากรคอร์ป) และวัสดุเป้าหมาย CuxSe (99.99% ความบริสุทธิ์แสงอาทิตย์<br>ประยุกต์วัสดุเทคโนโลยีคอร์ป) จะใช้แยกกันในวิธีการนี้<br>(Lai et al., 2017) พลังงาน RF สำหรับวัสดุเป้าหมาย ZnxSn1-X และ CuxSe<br>วัสดุเป้าหมายตามลำดับ 100 วัตต์และ 200 W. เป้าหมายไปตั้งต้น<br>ระยะถูกเก็บไว้ที่ 13.5 ซม. และเป้าหมายของ 3 ใน. ในเส้นผ่าศูนย์กลาง<br>ถูกนำมาใช้ในการศึกษานี้ ความหนาแน่นพลังงาน RF สำหรับ ZnxSn1-X และ CuxSe <br>เป้าหมายเป็น 2.19 W / cm2 และ 4.39 W / cm2 ที่อุณหภูมิห้อง ต่อจากนั้น<br>ความหนาของแต่ละชั้นเป็น 0.5 ไมครอนและ 0.25 ไมครอน <br>จากนั้นฟิล์มบางสารตั้งต้นถูกวางไว้ในฐานะผู้ถือควอทซ์และถูก<br>ส่งเข้าไปในเตาเผาชำระด้วย Ar พร้อมกับ 700 mg ของซีลีเนียมที่เป็นของแข็ง <br>กระบวนการ Selenization ถูกนำตัวพร้อมชุดโปรแกรมของอบอ่อน<br>ลาดอุณหภูมิที่มีอุณหภูมิสูงสุด 550 องศาเซลเซียสที่อยู่อาศัยสำหรับ<br>30 นาทีในชั้นบรรยากาศซีลีเนียมปลอดสารพิษ ภาพยนตร์บาง CZTSe มี<br>ที่เกิดขึ้นในกระบวนการ selenizaiton และมีการระบายความร้อนตามธรรมชาติไปที่ห้อง<br>อุณหภูมิหลังจากนั้น การก่อตัวของเฟส CTSe kesterite ใน<br>CuxSe / ZnxSn1-x bilayer ปูชนียบุคคลที่เกิดขึ้นในขั้นตอนแรก ในฐานะที่เรา<br>เพิ่มขึ้นอุณหภูมิ selenization ที่ ZnxSn1-X และ CuxSe ย่อยสลาย<br>ตามลำดับเนื่องจากการจุดหลอมละลายที่แตกต่างกันของพวกเขา ในขณะเดียวกัน<br>การดำรงอยู่ของ interlayer CTSe มีบทบาทสำคัญในการ<br>เจริญเติบโตของข้าว CZTSe แต่ละ CZTSe ฟิล์มบางถูกจัดทำขึ้นพร้อมกับ<br>CZTSe ฟิล์มบาง ๆ ตามที่ฝากสำหรับกรณีของ Mo, FTO และสารตั้งต้น ITO <br>ขณะที่หนึ่ง CZTSe ฟิล์มบางถูกสงวนไว้สำหรับการวิเคราะห์ฟิล์มบาง, อื่น ๆ<br>ฟิล์มบาง CZTSe ประดิษฐ์เข้าไปในเซลล์แสงอาทิตย์ CZTSe สำหรับแต่ละกรณี สำหรับ<br>การผลิตของ CZTSe เซลล์แสงอาทิตย์ชั้นซีดีที่มีความหนา 50 นาโนเมตร<br>เป็นชั้นชนิดเอ็นบัฟเฟอร์ถูกวางบน P-ประเภท CZTSe ฟิล์มบาง ๆ<br>ผ่านทางเคมีอาบน้ำทับถม (CBD) ที่ 85 องศาเซลเซียสและตามมาด้วย<br>ZnO ที่แท้จริง (i-ZnO) ชั้นที่มีความหนา 50 นาโนเมตรและ Al-เจือ<br>ซิงค์ออกไซด์ (อัลซิงค์ออกไซด์, AZO) ชั้นที่มีความหนา 300 นาโนเมตรที่ถูกตามลำดับ<br>ฝากลงบนซีดีโดยสปัตเตอร์ที่อุณหภูมิห้อง <br>CZTSe เซลล์แสงอาทิตย์เสร็จที่ทับถมของ Ni และอัลตามลำดับ<br>ที่มีความหนา 50 นาโนเมตรและ 1 ไมโครเมตรเป็นขั้วไฟฟ้าด้านหน้า XRD <br>วิเคราะห์ได้ดำเนินการโดยมาตรการเลี้ยวเบนรังสีเอกซ์ SIEMENS D500 ด้วย<br>(1.5418 A) รังสี CuKa ลำแสง diffracted ถูกสแกนด้วย<br>ขั้นตอนของ 0.005 °การเชิงมุมช่วงθ-2θจาก 10 °ถึง 80 °และมีการรวม<br>เวลา 1 วินาที SEM, PL (โดยใช้เลเซอร์กระตุ้นด้วย 635 นาโนเมตร<br>คลื่น), ซิมส์และ EDS ได้ดำเนินการไปตามที่ฝาก CZTSe <br>ฟิล์มบางบน Mo, FTO และ ITO พื้นผิวเพื่อให้ได้โครงสร้างของพวกเขาและ<br>การวิเคราะห์องค์ประกอบและลักษณะแสงและไฟฟ้าของพวกเขา<br>ในขณะที่ปัจจุบัน -voltage (IV) การวัดและมีประสิทธิภาพควอนตัมภายนอก<br>(EQE) วัดถูกนำมาใช้สำหรับการวิเคราะห์ผลการดำเนินงานอุปกรณ์<br>ของเซลล์แสงอาทิตย์ CZTSe กับพื้นผิวที่แตกต่างกัน องค์ประกอบ<br>ของภาพยนตร์ CZTSe เป็นสังเคราะห์มีการระบุไว้ในตารางที่ 1 และเหล่านี้<br>ตัวอย่างเปิดเผยทองแดงอัตราส่วนองค์ประกอบยากจนและอุดมด้วยธาตุสังกะสีที่มีลูกบาศ์ก /
Being translated, please wait..

Results (
Thai) 2:
[Copy]Copied!
ฟิล์มบางได้รับการจัดทำขึ้นบนโมโตเคลือบ, อิโตะ, และ FTO<br>พื้นผิวแก้วมะนาวเคลือบโซดา กระบวนการสองขั้นตอนที่มีการสุ่ม<br>หลังจากสปัตเตอร์ (SAS) ถูกนำมาใช้สำหรับ CZTSe การเติบโตของฟิล์มบาง<br>การศึกษาดังต่อไปนี้ ชั้นแรกของสารตั้งต้นสำหรับ CZTSe บาง<br>ภาพยนตร์จะถูกฝากไว้บนพื้นผิว Mo, FTO และ ITO โดยใช้ความถี่วิทยุ<br>(RF) สปัตเตอร์ในบรรยากาศของ Ar ที่ 5 mTorr ภายใต้อุณหภูมิห้อง<br>ทั้งวัสดุเป้าหมาย ZnxSn1 (๙๙.๙๙% ความบริสุทธิ์, Summit-Tech<br>ทรัพยากรคอร์ป) และ CuxSe วัสดุเป้าหมาย (ความบริสุทธิ์๙๙.๙๙%, พลังงานแสงอาทิตย์<br>เทคโนโลยีการประยุกต์ใช้วัสดุ จะใช้แยกต่างหากในวิธีการนี้<br>(Lai et al., ๒๐๑๗) พลังงาน RF สำหรับวัสดุ ZnxSn1 และ CuxSe<br>วัสดุเป้าหมายตามลำดับคือ๑๐๐ W และ๒๐๐ W เป้าหมายไปยังพื้นผิว<br>ระยะทางถูกเก็บไว้ที่๑๓.๕ซม. และเป้าหมายของ3ในเส้นผ่าศูนย์กลาง<br>ถูกนำมาใช้ในการศึกษานี้ ความหนาแน่นของพลังงาน RF สำหรับ ZnxSn1 และ CuxSe<br>เป้าหมายคือ๒.๑๙ W/cm2 และ๔.๓๙ W/cm2 ที่อุณหภูมิห้อง ต่อมา<br>ความหนาของแต่ละชั้นคือ๐.๕μ m และ๐.๒๕μ m<br>จากนั้นจะมีการวางฟิล์มบางๆในตัวยึดควอตซ์และ<br>ส่งเข้าไปในเตาที่ถูกกำจัดด้วย Ar พร้อมกับ๗๐๐มิลลิกรัมของที่แข็งซีลีเนียม.<br>กระบวนการ selenization ถูกนำไปตามชุดที่ตั้งโปรแกรมของการอบ<br>ทางลาดอุณหภูมิที่มีอุณหภูมิสูงสุด๕๕๐° c ที่อยู่อาศัยสำหรับ<br>ในบรรยากาศของซีลีเนียมที่ไม่เป็นพิษ30นาที ฟิล์มบาง<br>ที่เกิดขึ้นในกระบวนการ selenizaiton และมีการระบายความร้อนตามธรรมชาติที่ห้อง<br>อุณหภูมิหลังจากนั้น การก่อตัวของขั้นตอนการ kesterite CTSe ใน<br>สารตั้งต้น CuxSe/ZnxSn1 − x ที่เกิดขึ้นในขั้นตอนแรก ขณะที่เรา<br>เพิ่มอุณหภูมิในการ selenization, ZnxSn1 − x และ CuxSe ที่ย่อยสลาย<br>ตามลำดับเนื่องจากจุดหลอมเหลวที่แตกต่างกัน ขณะเดียวกัน<br>มีบทบาทสำคัญในการดำรงอยู่ขององค์กร CTSe<br>การเจริญเติบโตของเมล็ดข้าว. ฟิล์มบางของ CZTSe จัดทำขึ้นพร้อมกับ<br>ในฐานะที่เป็นฝากของ CZTSe ฟิล์มบางสำหรับกรณีของการเป็นพื้นผิว Mo, FTO และ ITO<br>ในขณะที่หนึ่งฟิล์มบางๆ CZTSe ถูกสงวนไว้สำหรับการวิเคราะห์ฟิล์มบาง, อื่นๆ<br>ฟิล์มบางถูกประดิษฐ์เข้าไปในเซลล์แสงอาทิตย์ของ CZTSe สำหรับแต่ละกรณี. สำหรับ<br>การผลิตของเซลล์แสงอาทิตย์ของ CZTSe, ซีดีชั้นที่มีความหนาของ๕๐ nm<br>เป็นชั้นบัฟเฟอร์ชนิด n ถูกฝากไว้บนฟิล์มบางชนิด CZTSe<br>ผ่านการสะสมของห้องอาบน้ำสารเคมี (CBD) ที่๘๕° c และตามด้วย<br>ชั้น (i-ZnO) ที่มีความหนาของ๕๐ nm และอัลเจือ<br>ในชั้นที่มีความหนาของ๓๐๐ nm, ที่ถูกตามลำดับ<br>ฝากลงซีดีโดยสปัตเตอร์ที่อุณหภูมิห้อง การ<br>เซลล์แสงอาทิตย์ของ CZTSe เสร็จสิ้นที่การสะสมของ Ni และ Al ตามลำดับ<br>ความหนาของ๕๐ nm และ1μ m เป็นอิเล็กโทรดด้านหน้า XRD<br>ทำการวิเคราะห์โดยใช้เครื่องกระจายแสงเอ็กซเรย์ของ SIEMENS<br>การฉายรังสี CuKa (๑.๕๔๑๘Å) ลำคลื่นกระจายแสงถูกสแกนด้วย<br>ขั้นตอนของ๐.๐๐๕°, ในมุมθ–2θช่วงจาก10°ถึง๘๐°และมีการรวม<br>เวลา1วินาที SEM, PL (ใช้เลเซอร์กระตุ้นด้วย๖๓๕ nm<br>ความยาวคลื่น), ซิมส์, และ EDS ถูกดำเนินการในฐานะที่ฝากของ CZTSe<br>ฟิล์มบางๆบนพื้นผิว Mo, FTO และ ITO ที่จะได้รับโครงสร้างของพวกเขาและ<br>การวิเคราะห์ที่ไม่มีการระบุตัวตนและลักษณะทางแสงและไฟฟ้าของพวกเขา<br>ขณะที่การวัดแรงดันไฟฟ้า (I-V) และประสิทธิภาพของควอนตัมภายนอก<br>(EQE) การวัดที่ใช้ในการวิเคราะห์ประสิทธิภาพของอุปกรณ์<br>ของเซลล์แสงอาทิตย์ CZTSe บนพื้นผิวที่แตกต่างกัน องค์ประกอบ<br>ของภาพยนตร์ CZTSe ที่มีการระบุไว้ในตารางที่1และ<br>ตัวอย่างแสดงให้เห็นถึงอัตราส่วนการจัดองค์ประกอบภาพทองแดงที่ยากจนและสังกะสีด้วย Cu/
Being translated, please wait..
