Mono-crystal silicon wafers (or for

Mono-crystal silicon wafers (or for special applications, silicon on sapphire or gallium arsenide wafers) are used as the substrate. Photolithography is used to mark different areas of the substrate to be doped or to have polysilicon, insulators or metal (typically aluminium) tracks deposited on them.

Results (Thai) 1:

รับโมโนคริสตัลซิลิคอน (หรือสำหรับใช้งานพิเศษ ซิลิคอนแซฟไฟร์หรือรับแกลเลียม arsenide) ถูกใช้เป็นพื้นผิว Photolithography ถูกใช้เพื่อทำเครื่องหมายพื้นที่แตกต่างกันของพื้นผิวจะ doped หรือ polysilicon ลูกถ้วย หรือฝากบนแทร็คโลหะ (โดยปกติอะลูมิเนียม)

Results (Thai) 2:

เวเฟอร์ซิลิกอนขาวดำคริสตัล (หรือสำหรับการใช้งานพิเศษในซิลิกอนไพลินหรือแกลเลียม arsenide เวเฟอร์) จะถูกนำมาใช้เป็นสารตั้งต้น photolithography จะใช้ในการทำเครื่องหมายในพื้นที่ที่แตกต่างกันของพื้นผิวที่จะเจือหรือมีฉนวนโพลีซิลิคอนหรือโลหะ (ปกติอลูมิเนียม) แทร็คที่นำไปฝากไว้กับพวกเขา

Results (Thai) 3:

โมโนคริสตัลซิลิคอนเวเฟอร์ ( หรือสำหรับการใช้งานพิเศษในแซฟไฟร์หรือเวเฟอร์ซิลิคอนแกลเลียมอาร์เซไนด์ ) ใช้เป็นวัตถุดิบ 43 ใช้เครื่องหมายพื้นที่ที่แตกต่างของพื้นผิวได้ด้วย หรือ มี Polysilicon , ฉนวนหรือโลหะ ( โดยปกติอลูมิเนียม ) เพลงที่ฝากไว้กับพวกเขา