Fig. 3. TEM images of SiO2 nanopart

Fig. 3. TEM images of SiO2 nanoparticles at initial (a and b) and irradiated with neutron flux (c and d).TEM images shown in Fig. 3, have been taken up to ×1.200.000 magnification (10 nm index). From TEM images (Fig. 3a and b) of the initial nanoparticles it is seen that, all particles has 20 nm size in the samples. This shows that practically the process of “adhesion” does not occur in the initial sample without external influence. In other words, the experimental sample consists of pure nanoparticles, which has 20 nm particles diameter. Moreover, other two TEM images shown in Fig. 3c and d, we can say that new nanoparticles with about 70 nm size are generated in the sample by very little “adhesion” under the influence of neutron irradiation. And this small amount “adhesion” direct influence to electrophysical properties of nanomaterials [11], [12], [13], [14]. Furthermore, in order to study the lattice structure of SiO2 nanoparticles, it has been carried out SAED analyses for the samples exposed to neutron flux influence and initial circumstance in TEM device

Results (Thai) 1:

รูปที่ 3. ภาพ TEM ของอนุภาคนาโน SiO2 ที่ครั้งแรก (A และ B) และการฉายรังสีนิวตรอนฟลักซ์ (C และ D)
ภาพ TEM แสดงในรูปที่. 3 ได้รับการถ่ายถึง× 1.200.000 ขยาย (10 ดัชนีนาโนเมตร) จากภาพ TEM (รูป. 3a และ b) ของอนุภาคนาโนเริ่มต้นจะเห็นว่าอนุภาคทั้งหมดมีขนาดนาโนเมตรที่ 20 ในกลุ่มตัวอย่าง นี้แสดงให้เห็นว่าในทางปฏิบัติกระบวนการของการ“ยึดเกาะ” ไม่ได้เกิดขึ้นในตัวอย่างเบื้องต้นไม่มีอิทธิพลภายนอก ในคำอื่น ๆ ตัวอย่างการทดลองประกอบด้วยอนุภาคนาโนบริสุทธิ์ซึ่งมีขนาดเส้นผ่าศูนย์กลาง 20 อนุภาคนาโนเมตร นอกจากนี้ยังมีอีกสองภาพ TEM แสดงในรูป. 3c และ D เราสามารถพูดได้ว่าอนุภาคนาโนใหม่ที่มีขนาดประมาณ 70 นาโนเมตรถูกสร้างขึ้นในตัวอย่างโดยน้อยมาก“การยึดเกาะ” ภายใต้อิทธิพลของการฉายรังสีนิวตรอน และนี้จำนวนเล็ก ๆ “การยึดเกาะ” อิทธิพลโดยตรงกับคุณสมบัติของเครื่องมือไฟฟ้าของวัสดุนาโน [11] [12] [13] [14] นอกจากนี้เพื่อศึกษาโครงสร้างตาข่ายของอนุภาคนาโน SiO2,

Results (Thai) 2:

3. ภาพ TEM ของอนุภาคนาโน SiO2 ที่เริ่มต้น (a และ b) และการฉายรังสีที่มีฟลักซ์นิวตรอน (c และ d)
อิมเมจของ TEM ที่แสดงในรูปที่3ได้รับการถ่ายภาพได้ถึง× 1.200.000 (ดัชนี 10 nm) จากภาพ TEM (รูปที่3a และ b) ของอนุภาคนาโนเริ่มต้นจะเห็นได้ว่าอนุภาคทั้งหมดมีขนาด 20 nm ในตัวอย่าง นี้แสดงให้เห็นว่ากระบวนการของ "การยึดเกาะ" ไม่เกิดขึ้นในตัวอย่างเริ่มต้นโดยไม่มีอิทธิพลภายนอก ในคำอื่นๆตัวอย่างการทดลองประกอบด้วยอนุภาคนาโนบริสุทธิ์ซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาค 20 nm นอกจากนี้ภาพที่สองของ TEM ที่แสดงในรูป3c และ d เราสามารถพูดได้ว่าอนุภาคนาโนใหม่ที่มีประมาณ๗๐ nm ขนาดจะถูกสร้างขึ้นในตัวอย่างโดยน้อยมาก "การยึดเกาะ" ภายใต้อิทธิพลของการฉายรังสีนิวตรอน และจำนวนเล็กๆนี้ "การยึดเกาะ" มีอิทธิพลโดยตรงต่อคุณสมบัติทางกายภาพของวัสดุนาโน [11], [12], [13], [14] นอกจากนี้เพื่อที่จะศึกษาโครงสร้างตาข่ายของอนุภาคนาโน SiO2 ได้รับการดำเนินการวิเคราะห์ SAED สำหรับตัวอย่างที่สัมผัสกับอิทธิพลของฟลักซ์นิวตรอนและสถานการณ์เบื้องต้นในอุปกรณ์ TEM

Results (Thai) 3:

รูปสาม ภาพเต็มของนาโนซิลิกาภายใต้การฉายรังสีเริ่มต้นและ B และ C และ D
เต็มภาพที่แสดงในรูป 3 ได้ถูกขยายไปยังดัชนี 10nm × 1.200.000 ครั้ง ภาพเต็มของอนุภาคนาโนเริ่มต้นแสดงให้เห็นว่าอนุภาคทั้งหมดในตัวอย่างมีขนาด 20nm นี้แสดงให้เห็นว่ากระบวนการกาวที่เกิดขึ้นจริงจะไม่เกิดขึ้นในตัวอย่างเริ่มต้นโดยไม่มีผลภายนอก ในคำอื่นๆตัวอย่างทดลองประกอบด้วยอนุภาคนาโนบริสุทธิ์ที่มีเส้นผ่าศูนย์กลาง 20nm นอกจากนี้เราสามารถพูดได้ว่าภายใต้อิทธิพลของการฉายรังสีนิวตรอนอนุภาคนาโนใหม่เกี่ยวกับ 70nm ขนาดถูกสร้างขึ้นโดยการยึดเกาะน้อยมากในตัวอย่าง การยึดเกาะเล็กน้อยนี้มีผลโดยตรงต่อคุณสมบัติทางสรีรวิทยาไฟฟ้าของวัสดุนาโนและคุณสมบัติทางไฟฟ้าของพวกเขา นอกจากนี้เพื่อศึกษาโครงสร้างของผลึกนาโนซิลิเกตตัวอย่างและสภาพแวดล้อมเริ่มต้นของนิวตรอนฟลักซ์ในอุปกรณ์เต็ม