In High resolution NMR, absolute fi

In High resolution NMR, absolute field strength determination with high accuracy is difficult or impossible  use reference standard
TMS (CH3)4Si is widely accepted as I.S.
Silicon is relatively electropositive (Silicon is less electronegative than carbon)
All of the proton are identical  shielding parameter > than most other proton  single sharp peak at high applied field
Inert, soluble in organic solvent
The field strength to produce the TMS resonance line, BTMS at frequency :
B0= BTMS(1-TMS)
therefore X-Axis calibrated with respect to relative shift from TMS:

Results (Indonesian) 1:

Dalam resolusi tinggi NMR, penentuan kekuatan mutlak bidang dengan akurasi yang tinggi adalah sulit atau mustahil  penggunaan referensi standar4Si TMS (CH3) diterima secara luas sebagai isSilikon relatif electropositive (silikon kurang electronegative daripada karbon)Semua proton yang identik  melindungi parameter > daripada kebanyakan lainnya proton  tajam puncak tunggal di Lapangan Terapan yang tinggiInert, larut dalam pelarut organikBidang kekuatan untuk menghasilkan garis resonansi TMS, BTMS di  frekuensi: B0 = BTMS(1-TMS) oleh karena itu sumbu x dikalibrasi sehubungan dengan relatif pergeseran dari TMS:

Results (Indonesian) 2:

Dalam resolusi tinggi NMR, mutlak kekuatan medan penentuan dengan akurasi yang tinggi sulit atau tidak mungkin  standar penggunaan referensi
TMS (CH3) 4Si diterima secara luas sebagai IS
Silicon relatif elektropositif (Silicon kurang elektronegatif dari karbon)
Semua proton yang identik  perisai parameter> daripada kebanyakan lainnya proton  puncak yang tajam tunggal di bidang terapan tinggi
Inert, larut dalam pelarut organik
kekuatan lapangan untuk menghasilkan garis TMS resonansi, BTMS pada frekuensi :
B0 = BTMS (1-TMS)
karena X-Axis dikalibrasi dengan sehubungan dengan relatif pergeseran dari TMS: