Exposure of the artificially contam

Exposure of the artificially contaminated slides at a distance of 8 cm from the uv source led to a reduction of the contamination by 83.4%(dna) and 56.2%(saliva),with no relation to exposure time. A distance of 48 cm reduced the contamination by 70.7%(dna) and 53.5% (saliva), on average,showing that the distance between the samples and the light source has an effect on the reduction of the amount of contamination

Results (Thai) 1:

สัมผัสของภาพนิ่งที่ปนเปื้อนเทียมในระยะทาง 8 ซม. จากแหล่งยูวีที่นำไปสู่​​การลดลงของการปนเปื้อนโดย 83.4% (dna) และ 56.2% (น้ำลาย) กับสัมพันธ์กับเวลาการเปิดรับไม่มี ระยะทาง 48 ซม. ลดการปนเปื้อนโดย 70.7% (dna) และ 53.5% (น้ำลาย) โดยเฉลี่ยแสดงให้เห็นว่าระยะห่างระหว่างตัวอย่างและแหล่งกำเนิดแสงที่มีผลต่อการลดลงของปริมาณการปนเปื้อน

Results (Thai) 2:

แสงของภาพนิ่งในระยะทาง 8 cm เหือดปนเปื้อนจากแหล่งรังสียูวีนำเพื่อลดการปนเปื้อน โดย 83.4%(dna) และ 56.2% (น้ำลาย), กับไม่สัมพันธ์กับเวลาเปิดรับแสง ระยะทาง 48 ซม.ลดการปนเปื้อน โดย 70.7%(dna) และ 53.5% (น้ำลาย), เฉลี่ยแสดงว่า ระยะห่างระหว่างแหล่งกำเนิดแสงและตัวอย่างมีผลในการลดจำนวนการปนเปื้อน

Results (Thai) 3:

การรับแสงของกระดานลื่นอาจเกิดการปนเปื้อนที่ระยะห่างของ 8 ซม.จากแหล่งที่มารังสี UV ที่นำไปสู่การลดการปนเปื้อนโดย 83.4% (ดีเอ็นเอ)และ 56.2% (น้ำลาย)พร้อมด้วยไม่มีความสัมพันธ์อะไรกันถึงเวลาการรับแสง ระยะห่างของการปนเปื้อนลดลง 48 ซม.โดย 70.7% (ดีเอ็นเอ)และ 53.5% (น้ำลาย)โดยเฉลี่ยแล้วแสดงให้เห็นว่าระยะห่างระหว่างตัวอย่างและแหล่งกำเนิดแสงที่มีผลต่อการลดลงของจำนวนเงินที่มีการปนเปื้อน